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光敏甲基丙烯酸酯共聚物的合成及在负性光致抗蚀剂中的应用

舒航 , 刘敬成 , 王春林 , 刘仁 , 张胜文 , 刘晓亚

高分子材料科学与工程

以甲基丙烯酸(MAA)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)、甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)和甲基丙烯酸苄基酯(BZMA)为原料,通过自由基聚合制备了聚甲基丙烯酸酯系列共聚物PMMHB,再用甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)与PMMHB反应制得光敏共聚物PMMHB—G。用傅立叶红外光谱(FT—IR)、核磁共振氢谱(^1H-NMR)、凝胶渗透色谱(GPC)、热重分析(TGA)和差示扫描量热(DSC)表征了聚合物的结构与性能,用光学显微镜和扫描电子显微镜(SEM)观测了光致抗蚀剂的耐酸性、微观线路及分辨率。结果表明,随共聚物组成中BZMA含量增加,其分子量(Mn)和玻璃化温度(L)呈下降趋势,热分解温度(Td)提高。光致抗蚀剂的耐酸性随BZMA含量的增加而有所提高。由PMMHB-G制得光致抗蚀剂的图像线路清晰笔直,分辨率可达到40μm。

关键词: 甲基丙烯酸酯 , UV固化 , 光敏共聚物 , 光致抗蚀剂

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